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2011.11.11

vol.16

●日経エレクトロニクス (日経BB社発行)
2011-11-14号に三誠産業の技術が紹介されました!

◆低被ばく化へ加速する、最新医療機器◆
医療機器の低被ばく化に向けた技術開発が熱を帯びてきた。
東日本大震災を発端とする原発事故によって、被ばくに対して、患者の意識が高まったことが背景にある。
そして、医療機器本来の性能と大幅な低被ばく化を両立する技術が続々と登場し始めた。
弊社では、CSI(ヨウ化セシウム)の均一結晶を成長させる、蛍光体製造のキーテクノロジーである、ESC(静電)チャックの表面精度を、4~20nm(24m/100万)に高めることにより高感度化を実現。

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2011.10.27

vol.15

≪TMS研修会≫TMS記念研修会の展示情報・講演者として紹介される

◆三誠産業(株)◆
世界の半導体・液晶業界の大手メーカーから絶大の信頼と独創的技術力の評価を得ているトップベンチャーである。
プラズマ発振用ジェネレーターおよびマッチャーは、高精度制御・高安安定性・かつ高耐久性の実績から、今やワールドワイドの生産ラインでは安心して適用されており、かつ生産効率向上とコストメリット増大の実績を示している!
高真空・高温耐久性に優れた高真空・高温耐久性に優れたウエーハ搬送ロボット搬送ロボットは、高精度・高寿命製品として業界のスタンダードレベルまでに成長している!

 

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2011.7.19

vol.14

ホームページを全面リニューアル致しました
ご発注頂いた製品の製造工程をご確認頂ける、お得意様専用ページも
今後ご用意させて頂きますのでご活用ください

今後とも、どうぞ宜しくお願い申し上げます。

 

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2011.5.31

vol.13

SEMI FORUM JAPAN 2011 にて プレゼンを実施
講演タイトル:半導体最新微細加工技術のご紹介
講演サマリー:2X~3Xnm ETCHING SYSTEM のご紹介
         高圧ICP PLASMA SYSTEM のご紹介

 

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2010.6.27

vol.12

ISMI/ SEMATECH In Japan 半導体前工程改善について
パネラーとして30分に渡りプレゼンを実施
開催期間中 弊社機器を展示

 

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2009.6.27

vol.11

ISMI/ SEMATECH In Japan 半導体前工程改善について
パネラーとして30分に渡りプレゼンを実施
開催期間中 弊社機器を展示

 

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2008.6.29

vol.10

東京商工リサーチ
山陽のAクラス(優良)企業として学卒向け雑誌で紹介されました。

 

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2008.6.27

vol.9

Silicon World
Featuring TheSuppliers of Semiconductor Equipment Materials&Services
CVD/PVD/RTP Dry ETCH/ Strippers Automation/Robotics
Analysis Measurementノミネート

 

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2008.6.27

vol.8

ISMI/ SEMATECH In Japan 半導体前工程ホーラムにて
パネラーとして30分に渡りプレゼンを実施
開催期間中 弊社機器を展示

 

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2007.12.1

vol.7

中国新聞紙面にてオンリーワン、ナンバーワン特集で
大きく掲載。ナノ技術で半導体回路”電化製品や車を支える”
(高速RF MATCHING BOX及びRF測定について)を発表

 

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