サンセイジェネリック株式会社では、プラズマ用電源（高周波電源やマッチングユニット）、各種測定機器などの開発～製造をしているほか、半導体製造用ROBOTの開発にも携わっています。
RF GeneratorとRF Matching Unitに高速32Bit RISC CPUを採用し、独自のデジタル制御アルゴリズムにより高精度に安定した高速PLASMA環境を実現しました。
従来品に比べて約1.5倍～20倍の高速動作に、動作安定度は約1.5倍～10倍に向上。
高負荷PLASMA環境、条件に対応する為、独自の高耐圧、大電流・高周波NETWORKを開発し、インピーダンスの急激な変動にも余裕の高破壊耐量を実現しました。
PLASMA状態の管理、PLASMA条件、レシピの開発、評価を簡単に行う事が可能。
高速RISC CPUを使用し、独自の特許デジタル技術により高速、高精度にRF信号のデジタル処理を行い、RFリアルタイム解析、調査、RFインターロック等、Process中のインピーダンスの変動を高速、高精度に捉える事で異常放電等の短時間の変化を見逃しません。
Windows対応によりDATAの共有、解析、保存が簡単に行えます。
PLASMA状態の管理を簡単に行う事が可能。
高速32Bit RISC CPUを使用し、独自の特許デジタル技術により高速、高精度にRF信号のデジタル処理を行い、RFリアルタイム解析、調査、RFインターロックはProcess中のインピーダンスの変動を高速、高精度に捉える事で異常放電等の短時間の変化を見逃しません。
PLASMA不具合を検知すると、PROGRAMされたリトライプロセスまたは異常処理プロセスに自動的に移行し、安定したプロセス環境を保持します。
不具合予知診断機能により正常値、警報値、異常値を管理し動作の安定を図ります。
独自開発の超真空シール技術、ナノドライシールを開発致しました。
従来、問題になっていた磁性体の腐食問題を非金属ナノドライシールで解決。
水分や塩素系ガス等による磁体（鉄分等）の塩素反応による腐食を抑え、磁性流体シールをウェット環境や腐食性ガス環境で使用する事が可能になりました。
また、磁性流体シールを高真空環境で使用すると、グリスが気化するため、高真空では使用できない問題についても、独自開発の超真空シール技術・オイルレス・ナノドライシールで解決しました。
半導体、液晶、太陽電池、有機EL、薄膜の開発の中心技術を担っているPLASMA技術開発において、独創性を高く評価されています。
その技術を評価され特許を取得、独創性を発揮し従来技術では解決出来なかった問題を飛躍的に改善しました。
次世代技術開発に注力し、いち早く具現化させる為に日夜、開発を進めています。
地球環境の改善、低炭素社会の実現を目指し、新技術の開発に努めています。
従来商品に比べ消費電力を約30％～85％低減。
従来商品に比べ環境負荷を約30％～70％低減。寿命を約1.5倍～3倍と長寿命化。
弊社、社内にて開発、設計、ソフト開発、試作、テスト、評価を行う為、短納期対応を実現。
独自開発の高速32Bit RISC CPUデジタル温度調節技術を開発致しました。
独自のフルクローズド プログラム デジタル温度調節技術により、従来品に比べ設定温度に対しての安定性を約20％～90％向上。
独自のタンクビルトイン省エネ 多段スクロール インバーター循環ポンプを開発。
独自のデジタル圧力制御運転、デジタル流量制御運転により従来品に比べ約15％～80％の消費電力の低減 長寿命化による保守費用を約20％～75％低減。
独自の電子応用技術、CPU開発技術、ソフトウェア開発、制御技術
アナログ、デジタル制御技術、デジタル通信技術、高周波開発技術
AC、DC、高電圧電源の開発技術 サーボ技術
PLASMA技術、真空技術
既に登録されているお得意様は、より詳しい製品情報をご覧になれます。
半導体を製造する上で、エッチング工程を担う製造装置の開発を行っています。
また、それら半導体製造装置のサポート～保守作業を承っております。
半導体製造装置の微細加工対応Ver UP改造 300mm 200mm 150mm
半導体製造装置のNEW Process コンバージョン改造
液晶、太陽電池製造の微細加工対応VER UP改造 2G～8G
液晶、太陽電池製造のNEW Process コンバージョン改造 2G～8G
半導体製造装置の微細加工対応PLASMAモジュール Ver UP改造
超高速RF MATCHING技術で最高速度 10mSECを実現
半導体製造装置のNEW Process コンバージョン改造
液晶、太陽電池製造の微細加工対応Ver UP改造2G～8G
液晶、太陽電池製造のNEW Process コンバージョン改造 2G
有機ＥＬ 微細加工、新素材Process対応Ver UP改造1G～
工業用薄膜加工用PLASMA工程コンバージョン改造
半導体製造装置の高真空加工用新搬送ROBOTコンバージョン改造
半導体製造装置の微細加工用新搬送ROBOT Ver UP改造
半導体製造装置の新素材Process加工用PLASMAユニットVer UP改造
半導体製造装置のディープトレンチ加工用 PLASMAユニットVer UP改造
液晶製造の微細加工対応Ver UP改造2G～8G
2次電池用製造装置の新素材Process PLASMAユニットVer UP改造
マスク製造装置の微細Process PLASMAユニットVer UP改造
太陽電池製造のNEW Process コンバージョン改造 2G～8G
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